Machine EUV : la Chine aurait encore 15 ans de retard d'après le patron de Zeiss

Introduction
La Chine veut rattraper son retard et devenir un acteur majeur des machines de photolithographie, essentielles à la fabrication de puces avancées, mais elle fait face à d’importants obstacles.

• Ambition stratégique : Pékin investit massivement dans la recherche et les partenariats pour développer des équipements de lithographie capables de produire des circuits à 7 nm et au‑delà, afin de réduire sa dépendance aux fournisseurs étrangers.
• Freins technologiques : Le savoir‑faire requis pour les machines à lumière extrême (EUV) reste dominé par quelques entreprises néerlandaises et américaines, et la Chine ne possède pas encore les sources laser, les optiques de précision et les matériaux nécessaires.
• Contraintes géopolitiques : Les restrictions à l’exportation imposées par les États‑Unis et leurs alliés limitent